Vyučující
|
-
Matoušek Jindřich, Mgr. Ph.D.
-
Kormunda Martin, doc. Ing. Ph.D.
-
Malý Jan, Mgr. Ph.D.
-
Štofik Marcel, Mgr. Ph.D.
-
Kolská Zdeňka, prof. Ing. Ph.D.
|
Obsah předmětu
|
1. Litografie - mokré a suché leptání 2. Litografie - laserová litografie a mikroobrábění 3. Litografie - projektově řešená úloha (rozsah 2 praktika, využití přístrojů a technik ? wafer bonder, UV fotolitograf, spincoater, mokré leptání, profilometr, naprašovačka, hot embossing systém, 3D stereolitografie, suché leptání) 4.-6. Analýza povrchu pomocí XPS, AES 7.-8. Analýza povrchu pomocí SIMS 9.-10. Analýza výbojového plazmatu (magnetronové plazma nebo kapacitní výboj) hmotnostní spektrometrií a OES 11. Analýza materiálů a tenkých vrstev metodou elipsometrie ? včetně tvorby modelu. 12. Elektrokinetická analýza. 13. Velikost povrchu a porozita materiálu.
|
Studijní aktivity a metody výuky
|
nespecifikováno
|
Výstupy z učení
|
Student provede pod dohledem přípravu nebo měření dodaných vzorků a určí parametry, které daná technika typicky nabízí. Vzorky budou pokud možno snadno měřitelné (připravitelné) a typické pro oblast běžného použití dané techniky. Součástí praktika je i teoretická příprava na úlohy a jejich aplikace z důvodu vysoké náročnosti obsluhy zařízení, z této části studenti zpracovávají rešeršní práci.
|
Předpoklady
|
nespecifikováno
KFY/LB1
|
Hodnoticí metody a kritéria
|
nespecifikováno
Podmínkou získání zápočtu je 100% účast a odevzdání všech protokolů z měřených úloh.
|
Doporučená literatura
|
-
B. Králová, L. Fukal, P. Rauch, T. Ruml. Bioanalytické metody, Vydavatelství VŠCHT PRAHA, 2001.
-
Brož, J. a kol. Základy fyzikálních měření I, SPN Praha, 1983.
-
Novák R. Úvod do teorie měření. Ústí nad Labem: UJEP, 2003.
-
Ruml T. Laboratoře z genového inženýrství. VŠCHT. 1997.
|