Předmět: Fyzikální metody depozice

» Seznam fakult » PRF » KFY
Název předmětu Fyzikální metody depozice
Kód předmětu KFY/FMD
Organizační forma výuky Přednáška
Úroveň předmětu Bakalářský
Rok studia nespecifikován
Semestr Zimní
Počet ECTS kreditů 4
Vyučovací jazyk Angličtina
Statut předmětu Povinný
Způsob výuky Kontaktní
Studijní praxe Nejedná se o pracovní stáž
Doporučené volitelné součásti programu Není
Vyučující
  • Matoušek Jindřich, Mgr. Ph.D.
Obsah předmětu
1. Vymezení pojmu tenkých vrstev (TV), příklady aplikací TV, přehled depozičních metod 2. Růst tenkých vrstev, procesy na povrchu, modely růstu 3. Vakuové napařování 4. Základní pojmy fyziky plazmatu, interakce částic, energie x teplota částic, vznik a udržení výbojů v plynech 5. Doutnavý výboj, interakce plazmatu se stěnami, DC, RF výboj 6. Diagnostika plazmatu stručně, Langmuirova sonda, OES, QMS, další druhy výbojů (MW, obloukový výboj) 7. Naprašování, princip metody, DC, RF naprašování, magnetrony, reaktivní naprašování, pulzní naprašování 8. Další depoziční techniky, laserová ablace, ablace elektronovým svazkem, IBD, depozice ionizovaných klastrů, anodická oxidace, vrstvy Langmuir-Blodgettové 9. Chemické a fyzikálně chemické metody depozice, CVD, CVD s přídavnou aktivací par (MPCVD, PECVD, RPECVD), plazmová polymerace 10. Metody měření depoziční rychlosti, měření parametrů plazmatu, QCM, elipsometrie, tvorba masky, AFM, mechanické profilometry, CWL, měření tlouštěk u specifických aplikací 11. Měření parametrů plazmatu, OES, Langmuirova sonda, QMS, SEERS, plazma monitor 12. Příprava substrátů, čištění, mechanické a chemické ošetření povrchů, žíhání, iontové leptání 13. Litografie, maskování, vytváření nanostruktur

Studijní aktivity a metody výuky
nespecifikováno
Výstupy z učení
Cílem kurzu je poskytnout studentům základní orientaci v povrchových technologiích, pochopit vazbu mezi složením a vlastnostmi povlaku i ve vztahu k technologii depozice.

Předpoklady
Výuka v angličtině je určena pro erasmové a zahraniční studenty. Výuka v případě malého počtu studentů probíhá formou individuálních konzultací.

Hodnoticí metody a kritéria
nespecifikováno
Znalosti studentů jsou ověřovány písemnou a ústní formou. Pro udělení zápočtu je třeba úspěšně absolvovat zápočtovou písemnou práci. Pro úspěšné absolvování celého předmětu je třeba vykonat ústní zkoušku.
Doporučená literatura
  • Eckertová L. Fyzika tenkých vrstev.
  • Eckertová, L., Růžička, T. Growth and Applications of Thin Films.
  • Mattox D.M. Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing, Noyes Publications.
  • Musil J., Vyskočil J. Tenké vrstvy nitridu titanu.


Studijní plány, ve kterých se předmět nachází
Fakulta Studijní plán (Verze) Kategorie studijního oboru/specializace Doporučený ročník Doporučený semestr